當(dāng)前位置：儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 化學(xué)試劑>其它化學(xué)試劑>其它> 雙盤磨拋機
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產(chǎn)品特點：8(203mm)鋁制底盤雙盤拋光機，連兩個8(203mm)尼龍底盤及兩個固定環(huán)
產(chǎn)品特點：
8"(203mm)鋁制底盤
雙盤拋光機，連兩個 8"(203mm) 尼龍底盤及兩個固定環(huán)。轉(zhuǎn)速約 50 -500rpm，並備有轉(zhuǎn)速顯示屏。
在底盤的附近設(shè)有可彎曲軟管，出/入水管接駁口設(shè)置在儀器的背面，並附有開關(guān)龍頭，可直接將水沖向樣品，對研磨工序十分有幫助。
技術(shù)規(guī)格：
| 馬達(dá)驅(qū)動 | 無極變速：1HP (0.75kW) 的馬達(dá)和控制器 |
| 底盤支持 | 快速更換底盤系統(tǒng) |
| 底盤尺寸 | 兩個直徑為8"(203mm)鋁制底盤 |
| 潤滑方式 | 水的入口和出口在后面板，配備了軟管的水龍頭，可將水輸送到研磨盤的任意地方。 |
| 電子學(xué) | CW順時和CCW逆時兩個方向旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0-500rpm配合EZ-DRO調(diào)整 |
| 規(guī)格大小 | |
| 寬度 | 25 1/2" (650 mm) |
| 深度 | 24" (610mm) (add 1" (30mm) 后面板的進(jìn)出水口 |
| 高度 | 11" (280mm) |
| 重量 | 70 lbs. (32Kg) |
訂購指南：
| 型號 | 描述 |
| E-10248 | Labpol Duo 8雙盤磨拋機 |
| E-10204 | Labpol Duo 8雙盤磨拋機防護(hù)蓋 |
| E-10206 | 8"(203mm)鋁制底盤防護(hù)裝置 |
| E-10218 | 8"(203mm)鋁制底盤 |
| E-10249 | 230mm砂紙固定環(huán) |
| 關(guān)于磨拋的精細(xì)程度與砂紙，絨布，研磨拋光料息息相關(guān)，請與我們銷售工程師聯(lián)系獲得Z佳的配置清單。 | |
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