Apreo 革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)，可產(chǎn)生的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會(huì)降低磁性樣品性能。

Apreo 受益于的透鏡內(nèi)背散射探測，這種探測提供**的材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時(shí)也不例外。新型復(fù)合透鏡通過能量過濾進(jìn)一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾?？蛇x低真空模式，現(xiàn)在的**樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求*嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。

通過這些優(yōu)勢（包括復(fù)合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應(yīng)對未來的研究難題。

性能特點(diǎn)

的復(fù)合末級透鏡可在任何樣品（甚至在傾斜時(shí)貌起伏大）上提供優(yōu)異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進(jìn)行電子束減速。
作用極大的背散射探測始終可保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時(shí)也不例外。
無比靈活的探測器可將各個(gè)探測器分割提供的信息相結(jié)合，讓用戶能夠獲得至關(guān)重要的對比或信號強(qiáng)度。
各種各樣的電荷緩解策略，包括倉室壓力**為 500 Pa 的低真空模式，可實(shí)現(xiàn)任何樣品的成像。
**的分析平臺提供高電子束電流，而且束斑很小。倉室支持三個(gè) EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析而優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。
樣品處理和導(dǎo)航極容易，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。

應(yīng)用領(lǐng)域

掃描電鏡**地應(yīng)用于金屬材料（鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工）和非金屬材料（化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維）等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。