108C 鍍碳儀（蒸鍍儀）108C鍍碳儀是用于掃描電鏡能譜分析的的鍍碳儀之一。 分類： 電鏡制樣設(shè)備, 鍍膜儀 標(biāo)簽： 鍍碳儀 Brand:Ted Pella

描述

108C鍍碳儀是用于掃描電鏡能譜分析的的鍍碳儀之一。

主要特性

l *的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚大約20nm左右進(jìn)行多次蒸發(fā)，無須切削或調(diào)整碳棒形狀。

l 108C中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。該鍍膜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，容易操作，抽真空周期短。選件MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀可以精確地得到所需的碳膜厚度。

l 使用新型的蒸發(fā)裝置：電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低，碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過脈沖或連續(xù)的方式操作。

l 可選擇手動(dòng)或自動(dòng)方式操作。

l 自動(dòng)模式下，蒸發(fā)源按程序設(shè)定的電壓和時(shí)間進(jìn)行噴鍍。手動(dòng)模式下，*的設(shè)計(jì)允許以脈沖或連續(xù)的方式操作，并通過旋鈕控制輸出電壓。

l 可配備MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）。分辨率優(yōu)于0.1nm。在15nm至25nm的碳膜厚度范圍內(nèi)，重現(xiàn)性可優(yōu)于5％。