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高分辨率FEB測長儀器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)

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適用于1Xnm級開發(fā)以及22nm級量產(chǎn)流程的測長SEM CG5000CG5000革新了運(yùn)送類系統(tǒng),并通過對電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良,實(shí)現(xiàn)了有史注1)的分辨率,處理能力,測長再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強(qiáng)化了自動校準(zhǔn)功能,提供了*穩(wěn)定的運(yùn)行率。另外,CG5000采用新測長技術(shù)及應(yīng)用,可應(yīng)用于使用新流程/新材料時所面臨的測長課題,也可全面適用于1Xnm級設(shè)備的開發(fā)。(注1)自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來,公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言

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高分辨率FEB測長儀器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)

適用于1Xnm級開發(fā)以及22nm級量產(chǎn)流程的測長SEM CG5000

CG5000革新了運(yùn)送類系統(tǒng),并通過對電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良,實(shí)現(xiàn)了有史注1)的分辨率,處理能力,測長再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強(qiáng)化了自動校準(zhǔn)功能,提供了*穩(wěn)定的運(yùn)行率。
另外,CG5000采用新測長技術(shù)及應(yīng)用,可應(yīng)用于使用新流程/新材料時所面臨的測長課題,也可全面適用于1Xnm級設(shè)備的開發(fā)。
(注1)自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來,公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言

特點(diǎn)

高生產(chǎn)性

此裝置革新了運(yùn)送機(jī)器的結(jié)構(gòu)構(gòu)成(包括裝、卸部件以及平臺速度和停止精度的提高),實(shí)現(xiàn)AF的高速化,通過可變像素實(shí)現(xiàn)測長區(qū)域的化,從而縮短MAM時間,與以往相比,提高了約40%的處理能力。

高分辨率

此裝置通過改良電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)(降噪,改善邊緣銳度,圖像內(nèi)部暗部強(qiáng)調(diào)),改善了Image Sharpness。

*穩(wěn)定性

  • 再現(xiàn)性
    此裝置通過電子光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定化,以及增加計量類型,可以實(shí)現(xiàn)測長區(qū)域的可設(shè)定性的可變像素,達(dá)到較高的再現(xiàn)性。
  • 匹配
    此裝置使用平臺上的樣品,通過開發(fā)的多種自動校準(zhǔn)功能,實(shí)現(xiàn)了*穩(wěn)定的匹配性能。
    特別是顯著改善了CG5000同一型號間的機(jī)型差異,實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)線管理的穩(wěn)定化。

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  • 基于設(shè)計數(shù)據(jù)的計量系統(tǒng) 基于設(shè)計數(shù)據(jù)的計量系統(tǒng)


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