新型的化學增幅型負像SU-8膠是一種負性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU-8光刻膠在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻*，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形；它還具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性和熱穩(wěn)定性。

產(chǎn)品簡介：

新型的化學增幅型負像SU-8膠是一種負性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU-8光刻膠在近紫外光(365nm-400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻*，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形；它還具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性和熱穩(wěn)定性。SU-8在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián)，是一種化學擴大負性膠，可以形成臺階等結(jié)構(gòu)復雜的圖形；且SU-8膠不導電，在電鍍時可以直接作為絕緣體使用。由于具有較多優(yōu)點，SU-8膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用SU-8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。

光刻前清洗工藝：

為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要對基材進行清洗。常用的清洗方法是利用濃硫酸及雙氧水的混合溶液浸泡，隨后用去離子水清洗并用氮氣吹干。除此之外還可以利用反應(yīng)離子刻蝕或等離子表面清洗儀清洗。

光刻工藝：

將SU-8光刻膠組分旋涂在基材上，旋涂厚度幾至幾百微米。涂覆晶片經(jīng)過前烘并冷卻至室溫。在烘干過程中，優(yōu)先選擇加熱均勻且溫度控制精確的加熱板；不能使用鼓風干燥箱，防止因為光刻膠表面優(yōu)先固化從而阻止內(nèi)層光刻膠溶劑的揮發(fā)。冷卻后，將負光掩模與涂覆晶片接觸并在汞燈的紫外輻射劑量10-250mJ/㎝²條件下進行曝光。曝光結(jié)束后，選擇合適的烘烤溫度及時間。將晶片在顯影液中浸漬顯影，隨后用氮氣吹干。

以及提供SU-8光刻膠相關(guān)產(chǎn)品：SU-8光刻膠顯影液、去膠液等。

SU-8顯影液

SU-8去膠液

更多有關(guān)SU-8 2000/3000系列光刻膠產(chǎn)品詳情請瀏覽蘇州汶顥微流控技術(shù)股份有限公司。