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簡介：1200℃小型開啟式管式爐，雙層殼體結(jié)構(gòu)，設(shè)計合理，外形美觀，結(jié)構(gòu)緊湊；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

簡介：1700℃*管式爐以1700型優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空...

簡介：1400℃雙溫區(qū)管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；以優(yōu)質(zhì)硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度...

簡介：1400℃三溫區(qū)管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；以優(yōu)質(zhì)硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度...

簡介：1700℃雙溫區(qū)管式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，智能化自動控溫系統(tǒng)、可控硅控制，控溫精度高；內(nèi)置兩個溫區(qū)，可營造不同的溫度梯度；結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

簡介：1700℃三溫區(qū)管式爐采用智能化自動控溫系統(tǒng)、可控硅控制，控溫精度高；內(nèi)置三個溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；采用真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣...

簡介：1200℃雙溫區(qū)滑動式管式爐是為生長石墨烯研制的爐，也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。爐體采用開啟式結(jié)構(gòu)，內(nèi)置兩個溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度；爐底安裝有直線滑軌，當(dāng)石墨烯生長結(jié)束后，...

簡介：1200℃雙溫區(qū)開啟式管式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu),智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；內(nèi)置兩個溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度。雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；結(jié)...

簡介：1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度；開啟式爐蓋設(shè)計，可在高溫情況下觀察物料反應(yīng)情況并實現(xiàn)迅速降溫；真空級法蘭密...

簡介：1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度；開啟式爐蓋設(shè)計，可在高溫情況下觀察物料反應(yīng)情況并實現(xiàn)迅速降溫