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Grating X射線光柵及LIGA微結(jié)構(gòu)

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公司介紹：

德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù)，Microworks為客戶提供高精度微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品。在微納米技術(shù)領(lǐng)域，Microworks代表著高精度。在一個晶片內(nèi)或者從一個晶片到另一個晶片，其高縱橫比和精度可以遠低于1µm。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器（選頻濾波器）、微彈簧，RF等。

產(chǎn)品介紹：

X射線光柵的制作流程

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


吸收光柵

（a）準備光柵膠層

（b）掩膜光刻膠層在X射線下曝光

（c）形成精細的光刻膠結(jié)構(gòu)

（d）電鍍金形成X射線光柵結(jié)構(gòu)


產(chǎn)品特點：

  • 高縱橫比結(jié)構(gòu)

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


  • 極小周期

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

  • 大面積X射線

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

標準結(jié)構(gòu)面積

4英寸基板： 70~90mm的直徑

6英寸基板：高達110mm(在某些情況

有限制）


更大尺寸選項

拼接多個光柵面板

在單個制作工藝上擴大結(jié)構(gòu)面積（研發(fā)）



  • 彎曲光柵

椎束照射高縱橫比光柵，為了避免影像影響，可采用彎曲光柵，可使用特殊的夾具來運輸

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


主要應(yīng)用：

  • 用于Talbot干涉儀的X射線光柵

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司
北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

微焦源Talbot干涉成像儀

光源：微焦X射線管

E=25keV

加速電壓：40KV

電流：120 μA

G1：周期4.37 μm(Ni)

G2： 周期2.4μm(Au）

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

在SR裝置BL-14C線站的Talbot干涉實驗

E=17.8 keV

Al 濾片 2.0 mm


G1：周期 2.4 μm (Ni）

G2：周期 2.4 μm (Au）





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