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小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)- Microwriter ML3

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我也要出現(xiàn)在這里

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專(zhuān)業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法,克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫(xiě)是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開(kāi)關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫(xiě)光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無(wú)掩膜直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫(xiě)速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。應(yīng)用領(lǐng)域小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)是英國(guó)Durham Magneto Optics公司專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

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Microwriter產(chǎn)品特點(diǎn)


Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能
Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。



直寫(xiě)前預(yù)檢查
軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面,并顯示預(yù)直寫(xiě)圖形位置。通過(guò)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫(xiě)準(zhǔn)確。


標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。



光學(xué)輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向精度100 nm,方便快捷。


簡(jiǎn)單的直寫(xiě)軟件

MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。



Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件

+ 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件

(DXF, CIF, GDSII, 等)

+ 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

+ 書(shū)寫(xiě)范圍只由基片尺寸決定



Microwriter基本參數(shù)


Microwriter ML3基本型增強(qiáng)型旗艦型
大樣品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm
大直寫(xiě)面積149mm x 149mm149mm x 149mm195mm x 195mm
曝光光源405 nm LED 1.5W405 nm LED 1.5W385 nm LED 適用于SU-8
(365+405nm雙光源可選)
直寫(xiě)分辨率1μm1μm and 5 μm0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直寫(xiě)速度20mm2/min @ 1μm20mm2/min @ 1μm25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭x10x3 and x10 自動(dòng)切換x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換
多層套刻精度±1μm±1μm±0.5μm
小柵格精度200nm200nm100nm
樣品臺(tái)小步長(zhǎng)100nm100nm50nm
光學(xué)輪廓Z分辨率無(wú)(可升級(jí))300nm100nm
樣品表面自動(dòng)對(duì)焦
灰度直寫(xiě)(255級(jí))
自動(dòng)晶片檢查工具無(wú)(可升級(jí))
溫控樣品腔室無(wú) (可升級(jí))無(wú) (可升級(jí))
虛擬模板校準(zhǔn)工具無(wú)(可升級(jí))無(wú)(可升級(jí))
氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái)無(wú)(可升級(jí))無(wú)(可升級(jí))



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