設備優(yōu)勢：
1.高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。
2.溫度控制
近紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。
3.不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動)，操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
華測HCP650-PM 是一款溫度范圍-190°C ~ 600°C溫控探針臺，可單獨使用，也可搭配顯微鏡/光譜儀使用，同時允許探針電測試、光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個氣密腔，可往內(nèi)充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結(jié)霜，或高溫下氧化，此款冷熱臺通過杠桿式支架，使用的是彎針探針。相比傳統(tǒng)的直針探針，這種設計不僅點針更準確，而且點針力度更大，和樣品的電接觸性更勝yi籌。冷熱臺可配合KEITHLEY Keysight等國際品牌測量源表進行電學性能測量。
華測儀器 品質(zhì)之選
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